플라즈마 질화기술은 낮은 온도에서 질화처리가 이루어지므로 열변형이 적어 정밀한 열처리 기술로 각광을 받고 있다.
이와 같은 장점에도 불구하고 처리품에 직접 전압을 인가하므로 아크발생과 모서리 부분의 과열과 처리품의 불균일한 문제점들이 플라즈마 질화 기술발전을 저해해왔다.
당사에서 보유하고 있는 질화장치는 처리품에 직접적으로 고전압을 인가하지 않으므로 기존에 발생했던 플라즈마 질화의 문제점들을 피할 수가 있다. 따라서 가스질화와 같이 처리품의 형상과 크기, 강종의 제약 없이 처리품들을 쉽게 질화할 수 있다.
본 장치의 또 하나의 장점은 히터를 사용하지 않는다는 것이다. 스크린에 의해 가열하고 그때 가열 되어진 입자들이 이동하여 처리품을 가열하는 방식이다. 설비내에 설치된 스크린이 음극으로 작용하여 더욱더 강력한 질화원자를 생성하고 또한 열원으로 작용하게 된다.