상세설명
◈ 제품 설명
- Wafer의 Photoresistor Coating System에서 사용되는 가열장비로, PR(Photoresist)도포 전 웨이퍼 상에
흡착된 수분, 솔벤트 등의 유기용제 제거에 사용되는 장비
◈ 제품 특징
- 열 전달 및 성능 개선을 통한 히팅시간(Rising Time) 단축
- 고온에서 균일한 온도 분포를 유지하여 이물질 제거 효율 향상
◈ 제품 용도
- 반도체 Wafer 제조시 가열 및 건조
- LCD Display 기판 가열
- 기타 전자부품 가열 및 건조 등
◈ 제품 규격
- 다양한 규격으로 제작 가능
