상세설명
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타겟소재 : Ti, Zr, Cr, W, Mo
타겟은 각종 산업용 공구 및 금형, 반도체 부품 및 디스플레이 제조장치 등의 내식, 내마모성, 내구성을 향상시키는 이온플레이팅 및 진공 증착 공정의 박막 형성용 재료로 용도에 따라 순도를 선정하고 다양한 형태로 정밀 가공하여 생산합니다.
타겟소재 : Ti, Zr, Cr, W, Mo
타겟은 각종 산업용 공구 및 금형, 반도체 부품 및 디스플레이 제조장치 등의 내식, 내마모성, 내구성을 향상시키는 이온플레이팅 및 진공 증착 공정의 박막 형성용 재료로 용도에 따라 순도를 선정하고 다양한 형태로 정밀 가공하여 생산합니다.