NANOMEZ™-3500은 가장 진보된 비접촉식 3D 프로필로메트리 기술인 WLI(백색광 간섭계) 기술을 기반으로 1nm에서 10nm 높이의 패턴을 정밀하게 분석하여 빠르고 정확하고 높은 검출력으로 나노 단위 표면 형상을 측정합니다. 특히 반도체 제조 공정의 나노레벨 비접촉 거칠기(Roughness)와 마이크로 CD측정과 같은 3D 지형 및 구조 분석을 위한 탁월한 계측 솔루션 입니다.  ​

응용 분야 

•3D surface profiling

•Dimensional analysis

•Stress measurement

•Roughness

•Surface 3D texture

•Particle measurement

•Step heights

•Flatness or curvature measurement

특장점

•Height resolution, 0.1nm

•The same resolution for different object lenses

•Capable of nano-level measurement

•High speed, High accuracy, 

   High resolution surface 3D topography measurement

•Excellent measurement performance for 

    the transparent / semi-transparent / milky colored samples

•Non-contact methods without any pre-works for samples

•High accuracy of repeatability, 

    accuracy and reproductivity

•Height, Step height, Depth,  Line, Circle, Round,

    Angle, Width, Distance Measurement

•Roughness of line, FOV, measurement of waveform

•Scratch, abrasion and defects analysis

•Area, volume measurement