가. 본 장치는 기술개발 업무에 있어 제품 열처리에 사용되는Vacuum Furnace챔버내에 제품을 장입시키고 진공 또는 분위기 가스 하에서 가열 열처리하는 장치입니다.

나. 본 장치는 사용 공간의 편의성을 위해 장비시스템 전체가 이동이 용이한 구조로 구성되어 있으며, 유틸리티의 탈부착이 용이하게 제작 설계되었습니다.

다. 가열실의 온도 제어는 Thyristor에 의한 P.I.D 제어를 기본으로합니다.가열실의 온도 측정은 Thermocouple의 (C-type)방식을 채택합니다.

라. 본 장치는 특히 고진공(작업 분위기 : ×10-3 Torr)분위기 내에 설치,운전되므로 장비의 소프트웨어가 장치의 용도/특성 및 확장성등 제반 특성을 충분히 파악한 후 진행시키도록 설계 합니다.

마. 본 장치는 그라파이트 히터 및 반사판으로 사용합니다.취급에 주의를 요하는 재료입니다. 따라서 장치/설비의 유지보수를 위하여 충분한 품질 및 교육이 진행 됩니다.

바. 본 장치는 고온의 진공 열처리 장비이므로 각종 위험에 대한 충분한 안전 방안을 위하여 성능 및 작동 이상 시, 경보 기능은 물론 기계를 안전한 상태로 복구시키는 인터록 기능이 확보되어있습니다.

▶ Furnace Features : High Vacuum Furnace

▶ Furnace Type : Hot Zone Graphite Horizontal Furnace

▶ Working Temperature : Nor. 1,800℃, Max. 1,900℃

▶ Temp. Uniformity : Work Zone내부에서 ± 3℃ (at 1,900℃)

▶ Work Zone Size : (w x d x h) : 100 x 100 x 100 mm

▶ Heating Up Rate : Nor. 15℃/min, Under. 30℃/min

▶ Atmosphere : High Vacuum, Nitrogen, Ar

▶ Heating Element : plate type 2면타입

▶ Insulation : Sheet Shield

▶ Temp. Measurement : C-type Thermocouple

▶ Temperature Control : 1 Zone PID Control by Thyristor

▶ Atmosphere Control ： Flow Meter Control

▶ Evacuation : Rotary Pump 600L/min

▶ Ultimate Vacuum : ~ 10-3 Torr [No Load, Baking & Purge]

▶ System Control：PLC Sequencer Control