상세설명
Performance Specifications
| Axis | X Axis (Bottom) | Y Axis (Upper / Dual) | |||
| Effective Stroke | 920 mm | 760 mm | |||
| Maximum Velocity | 1,000 mm/sec | 1,000 mm/sec | |||
| Maximum Acceleration | 0.5 G | 0.5 G | |||
| Scale Resolution | 0.1 ~ 1.0 um / count | 0.1 ~ 1.0 um / count | |||
| Position Accuracy | ± 5 µm (Non-Error Mapping) | ± 5 µm (Non-Error Mapping) | |||
| Position Repeatability | ± 0.5 µm | ± 0.5 µm | |||
| Straightness (Horizontal) of Effective Stroke |
± 3 µm | ± 3 µm | |||
| Straightness (Vertical) of Effective Stroke |
± 3 µm | ± 3 µm | |||
| Yawing of Effective Stroke | ± 7 arc-sec | ± 6 arc-sec | |||
| Pitching of Effective Stroke | ± 7 arc-sec | ± 6 arc-sec | |||
| orthogonality | ± 5 arc-sec | ||||
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장비의 정도를 높이기 위하여, Profile로 구성된 Gantry 리니어 스테이지를 석정반과 조합한 정밀 스테이지 이다. |
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Profile 리니어 스테이지의 특성상 단축부터 다축, 또는 Gantry 형태의 기구 구성이 가능하다. |
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장비 구성에 따라 100 mm ~ 3,000 mm의 Stroke가 가능하며, 장비 정도에 따라 최대 0.1 micron의 분해능이 가능하다. |
