상세설명
| 항목 | 세부내용 |
|---|---|
| X-선 발생기 | Mo/Rh/W/Ag Target(Option), 50kVp, 1mA |
| 검출기 | FSDD (Fast silicon draft Detector) |
| 분해능 | Si type Detector(FSDD) 122eV FWHM at Mn Kα |
| X-선 조사범위 | Poly capillary optics(Focal Spot 15um/30um) FWHM |
| 측정 범위 | Ti(22)~U(92) |
| 시료 형태 | Wide PCB |
| 장비 크기 | 2600 X 1350 X 2050mm (WXDXH) 415X510mm PCB / 810X610mm PCB |
| 측정가능 PCB 크기 | 415X510mm
610X510mm 810X610mm (W×D) |
| 유틸리티 |
전원 : 단상 220V, 4kw 공압 : 5kgf |
| 주요특징 |
일반도금, Rh, Pd, Au, Ag, Sn, Ni 두께측정 다층 박막 두께 측정 (최대 5층 |
| 카메라 배율 | 40~80 배 |
| 방사능 안전차단 장치 | 자동 3중 차단 장치 |
| 유해물질 성적서 레포트 종류 |
Excel, PDF파일 저장 / 출력 사용자 지정 양식 |
| 주요 장점 |
다층박막 두께 측정 (최대 5 Layer) 편리한 스테이지 컨트롤 멀티포인트 측정 가능 |
| 응용 분야 |
ENIG, ENEPIG, HDI 전자회로보드 (PCB) 도금두께 측정시 정확한 함량 분석 |
